ASML Holdings начнёт массовые поставки оборудования для EUV-литографии в 2016 году

Не тайна, что каждый шаг в освоении новых техпроцессов даётся производителям микроэлектроники всё сложнее. На бумаге всё смотрится просто и радужно, но на самом деле разработчики уже практически подошли к лимиту, определяемому законами физики, и каждый нанометр приходится практически вырывать у их с боем. Недаром большие производители микроэлектроники затрачивают млрд долларов на исследования и новые разработки в этой области. В качестве примера можно привести Intel, которая считает, что сумеет достигнуть освоения 10-нанометрового техпроцесса без внедрения литографии экстремального ультрафиолета (EUV). Очень серьёзное заявление, тем паче, что был упомянут и следующий, 7-нанометровый техпроцесс.

WHT.BY

Но не следует забывать, что в области производства всеохватывающих чипов есть свои «серые кардиналы», без которых такие короли рынка, как Intel, могли быть беспомощны. Речь идёт о производителях оборудования для узкой фотолитографии, а лидером среди их и наикрупнейшим поставщиком такового оборудования является ASML Holdings. Эта компания уже объявила, что начало по-настоящему массового производства и поставок систем экстремальной ультрафиолетовой литографии запланировано на 2016 год. На самом деле, очевидно, сроки могут быть скорректированы - всё находится в зависимости от успехов в доведении технологии EUV до совершенства.

WHT.BY

На сегодня ASML располагает 2-мя системами EUV - NXE:3100 и NXE:3300B. Последняя, более совершенная модель, рассчитана на обработку приблизительно 125 кремниевых подложек в час. Пока было продано всего 11 комплексов NXE:3300B, причём за последний год поставлено покупателям только три. Ещё 5 будут отгружены позже, а оставшиеся послужат основой для модернизации в NEX:3350B. Нужно сказать, что информация о клиентах ASML Holdings хоть и является секретной, но скрыть такового клиента, как Intel, просто нереально, тем паче, что именно Intel принадлежит 15 % акций ASML, а объём инвестиций с её стороны превосходит 4,1 млрд долларов США. Другими словами, Intel получит оборудование для экстремальной ультрафиолетовой литографии в числе первых. Это очень удачный «запасной вариант» на тот случай, если компания всё-таки не сумеет нормально освоить 10 либо 7-нанометровый техпроцесс без внедрения EUV.

wccftech.com


Возврат к списку


Обсуждение
 
Текст сообщения*
Загрузить файл или картинкуПеретащить с помощью Drag'n'drop
Перетащите файлы
Ничего не найдено
Отправить Отменить
Защита от автоматических сообщений
Загрузить изображение
 

Последние новости IT

15:59 В Беларуси стартовали продажи Huawei Mate 10 Pro
21:11 В честь объединения брендов velcom раздаст абонентам 25 телевизоров
15:10 Бюджетный смартфон Panasonic Eluga I9 получил 5 дюймовый экран
15:09 Глава Blue Charm поделился планами компании на будущий год
14:31 MSI анонсировала графический ускоритель Radeon RX Vega 64 Air Boost

Все новости IT

Популярные новости IT

Canon готовит цифрокомпакт PowerShot G7 X с 1" матрицей
ARM и IBM подключили Интернет вещей к «облакам»
Производство Nintendo Wii U закончат через два года
В Steam вышел мод Portal 2: Aperture Tag, добавляющий в игру 27 новых уровней
HP обновит линейку рабочих станций Z1




Первый Каталог - Телефония и связь Система Orphus

© 2011-2017 · The World of High-Tech
Мир Высоких Технологий · www.WHT.by